 |
Установки экспонирования |
для экспонирования фоторезиста; для экспонирования паяльной маски; для экспонирования маркировочной краски (шелкографии); |
 |
 |  | C SUN Mfg. Ltd.Фирма C SUN Mfg. Ltd. образована в 1966 году. Занимается разработкой оборудования для решения задач в области инженерной механики, электрики, электроники, программном обеспечении, оптике и химии. |
 |
 |  | Паяльная маска. C SUN UVE-M720, 8 КВт. Установка двустороннего экспонирования
Установка C SUN UVE-M720 предназначена для экспонирования фотопроявляемой паяльной маски при производстве одно и двусторонних печатных плат. В установке применены две рамы. Пока одна рама экспонируется, во вторую раму укладывается заготовка.
Особенности
Две рамы экспонирования: сверху майларовая или акриловая плёнка — снизу стекло.
Каждая рама увеличенной ёмкости на 2 заготовки размера 18″ x 24″ или на одну заготовку размером до 36″ x 24″.
Рамы оснащены автоматическмим электромагнитными замками.
Прижим фотошаблона осуществляется вакуумом, создаваемым внутри рамы.
Двустороннее экспонирование с автоматическим управлением временем экспонирования.
Встроенный измеритель интенсивности излучения.
Индивидуальные настройки для верхней и нижней лампы экспонирования.
Индивидуальные настройки для верхней и нижней рамы экспонирования.
Управление установкой от программируемого логического контроллера с сенсорным экраном.
Встроенная система самодиагностики с выводом сообщений на монитор установки.
Технические характеристики:
Максимальный размер заготовок: 610×915 мм
Толщина заготовок: 0-3,2 мм. При необходимости, можно экспонировать заготовки толщиной до 6 мм, но после работы с толстыми заготовками, возможно, придётся заменять майларовую плёнку на верхней раме экспонирования.
Мощность ламп: 2×8 КВт, металло-галогеновые лампы
Метод охлаждения ламп: косвенное водяное охлаждение с внешним охладителем
Однородность экспонирования: 80%
Интенсивность: 40-50 мВт/см² при длине волны 365 нм
Управление интенсивностью излучения: встроенный интеллектуальный УФ интегратор с измерителем УФ излучения.
Уровень вакуума в раме: −700 мм ртутного столба
Метод охлаждения рамы экспонирования: принудительное воздушное охлаждение
Условия эксплуатации: комната экспонирования с температурой 22ºС ±3ºС и относительной влажностью 55% ±5%.
Охлаждение ламп
Метод охлаждения: водяное, без непосредственного контакта.
Производительность внешнего охладителя: при 25°C — 120 л/мин; при 9-11°С — 50 л/мин.
Подвод воды: налив — труба 1-1/4″, слив — труба 3/4″.
Энергетика
Электропитание: 380 В, 50 Гц, 3 фазы, 30 КВА
Сжатый воздух: 6 бар, 40-80 л/мин
Масса и габариты
Габариты: 2807×1672×1693 + 100 мм
Вес: 800 кг.
Прочее
Состояние: новое оборудование
Срок поставки: 14-16 недель
Условия поставки: со склада в Зеленограде
Статус: поставка на заказ.
Все запросы по ценам присылайте по адресу: oborud@tabe.ru.
|  |
|