Установка C SUN UVE-M500 предназначена для экспонирования фоторезиста и паяльной маски при производстве одно и двухсторонних печатных плат. В установке применены две рамы. Пока одна рама экспонируется, во вторую раму укладывается заготовка.

Технические характеристики:

Максимальный размер заготовок и область экспонирования: 610×740 мм;

Толщина заготовок: 0-3,2 мм
(при необходимости, можно экспонировать заготовки толщиной до 6 мм, но после работы с толстыми заготовками, возможно, придётся заменять майларовую плёнку на верхней раме экспонирования)

Мощность ламп: 5 КВт;

Интенсивность: 30 мВт/см² при длине волны 365 нм;

Количество ламп: 2 ртутные лампы;

Однородность экспонирования: 80%;

В раме: сверху — майларовая пленка, снизу — стекло, вакуумный прижим;

Автоматические электромагнитные замки рам;

Сообщения об ошибках и проблемах на ЖКИ мониторе;

Интерфейс пользователя: сенсорный ЖКИ монитор;

Встроенные измерители интенсивности излучения;

Независимые установки для верхней и нижней рамы;

До 4 наборов предустановок параметров экспонирования;

Условия эксплуатации: чистое помещение, 22° ±3°; относительная влажность 55%.

Энергетика:

Электропитание: 380 В, 50 Гц, 3 фазы, 15 КВА;

Охлаждение ламп: непосредственное водяное, 25°C, 30 л/мин;

Емкость бака дистилированной воды: 60 л;

Подвод воды: труба 3/4″.

Масса и габариты:

Габариты: 1340×2100×1800 мм;

Вес: 800 кг.

Прочее

Состояние: новое оборудование
Срок поставки: 14-16 недель
Условия поставки: со склада в Зеленограде
Статус: поставка на заказ.
Все запросы по ценам присылайте по адресу: oborud@tabe.ru.